SAILES I-BIAS

高度灵活的版图几何变换工具，赋予用户极大的规则定义自由度。支持通过表格模式组合调整策略，提供多种偏置模式，并内嵌掩摸可制造规则约束(MRC)对每次变换进行校验，确保变换结果严格符合工艺要求，高效实现掩模尺寸补偿与版图优化。