SAILES I-LITHO

面向复杂晶圆形貌的严格光刻仿真工具，采用FDTD算法精确求解多层堆叠下的光强分布，支持顶视与截面可视化分析。集成光刻胶与BARC厚度优化、照明优化及工艺窗口仿真分析，可搭配紧凑型光刻胶模型并利用晶圆CD数据校准。准确捕捉因形貌变化引起的截面光强剧烈波动，实现仿真CD与晶圆数据高度匹配，助力先进工艺开发。