以反演光刻引擎为核心，通过自由形式掩模修正获取理想掩模图形与最大工艺窗口。可为OPC开发提供高质量的SRAF规则提取指导，已成功在逻辑通孔图形上完成全曼哈顿ILT流程演示，薄弱点的工艺变化带宽与归一化图像对数斜率均展现出显著改善，为先进节点提供有力的掩模优化方案。
